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材化學(xué)院磁控濺射離子復(fù)合鍍招標(biāo)公告
來(lái)源:國(guó)資處 發(fā)布時(shí)間:2008-07-07 點(diǎn)擊:

 

    我校擬對(duì)材化學(xué)院磁控濺射離子復(fù)合鍍進(jìn)行公開(kāi)招標(biāo)采購(gòu),歡迎相關(guān)具有資質(zhì)的廠(chǎng)商投標(biāo)報(bào)名。詳細(xì)技術(shù)要求如下:

    技術(shù)參數(shù):磁控濺射室;磁控濺射靶;直流電源;

              離子速濺射室;四工位轉(zhuǎn)靶;真空測(cè)量系統(tǒng);

              計(jì)算機(jī)控制鍍層系統(tǒng);制備超薄膜—中厚膜。

    報(bào)名截止日期:2008年7月8日下午4點(diǎn)

    地點(diǎn):西安工業(yè)大學(xué)國(guó)資處(未央校區(qū))

    聯(lián)系電話(huà):029-83208036,86173142

    聯(lián)系人:李老師,陳老師,朱老師